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　　為了減少鈦管靶中的氣孔，加強濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶的密度不但影響濺射速率，而且影響薄膜的電學和光學性能。靶密度越高，薄膜性能越好。另外，加強靶材的密度和強度可以使靶材可以承受濺射過程中的熱應(yīng)力。密度也是目標的關(guān)鍵性能指標之一。
　　通常目標材料是多晶結(jié)構(gòu)，晶粒尺寸可以從微米到毫米。對于鈦管靶，小晶粒靶材的濺射速率比大晶粒靶材快，而小晶粒差靶材（均勻分布）沉積的薄膜厚度分布比較均勻。